ВЛИЯНИЕ РН НА КИНЕТИКУ ЭЛЕКТРОВОССТАНОВЛЕНИЯ МЕДИ ИЗ АЦЕТАТНЫХ И СУЛЬФОСАЛИЦИЛАТНЫХ КОМПЛЕКСНЫХ РАСТВОРОВ

Translated title of the contribution: Effect of pH on the electrodeposition kinetics of copper from acetate and sulfosalicylate complex solutions

Research output: Contribution to journalArticlepeer-review

Abstract

Предложен метод расчета парциальных токов, характеризующих разряд отдельных комплексных ионов меди в ацетатном и сульфосалицилатном растворах. С использованием данного метода и результатов аналитического расчета состава растворов в зависимости от рН определены константы скоростей реакций электровосстановления разных форм комплексов меди. Мелкокристаллические осадки с высокой адгезией к поверхности получены из ацетатного (рН = 4.7) и сульфосалицилатного (рН = 6.6) растворов, в которых электровосстановление протекает при высокой поляризации, обусловленной низкими константами скорости разряда анионных комплексов меди.
Translated title of the contributionEffect of pH on the electrodeposition kinetics of copper from acetate and sulfosalicylate complex solutions
Original languageRussian
Pages (from-to)1498
Number of pages1
JournalИзвестия Академии наук. Серия химическая
Issue number7
Publication statusPublished - 2014

GRNTI

  • 31.15.00

Level of Research Output

  • VAK List

Cite this