Abstract
Рассмотрен процесс сенсибилизации пленок Pb0,975Sn0,025Se к ИК-излучению методом термической обработки на воздухе. Отжиг проводился в температурном диапазоне 403-723 K. Нагрев сопровождается рекристаллизацией агломератов, формирующих пленку. Показана взаимосвязь фоточувствительности слоев и температуры обработки. Пленки, сенсибилизированные в диапазоне температур 653-700 K, характеризуются наибольшей фоточувствительностью (80-140 мкВ). Увеличение темнового сопротивления и фоточувствительности, вероятно, связано с формированием оксидных фаз на поверхности микрокристаллитов пленки.
| Original language | Russian |
|---|---|
| Pages (from-to) | 1029-1033 |
| Number of pages | 5 |
| Journal | Неорганические материалы |
| Volume | 53 |
| Issue number | 10 |
| DOIs | |
| Publication status | Published - 2017 |
GRNTI
- 31.00.00 CHEMISTRY
Level of Research Output
- VAK List