Abstract

FIELD: metallurgy.
SUBSTANCE: invention relates to ion-plasma sputtering of multi-layer films. According to the film production method, ion-plasma sputtering of substrate by target material is done in vacuum with application of magnetic field. Preliminarily dependence of material properties of sputtered layer on pressure rating of sputtering gas is determined. Sputtering is done at pressure rating as well as rating and/or orientation of applied magnetic field required for obtaining specified properties of sputtered layer material. Wherein at least two layers are sputtered from one target at different sputtering gas pressures. Apparatus for film production comprises a shielded cathode target and a substrate holder located in horizontal magnetic field with orientation field configured to be changed. The shield is made with adjustable height and at least two openings for sputtering material. Each opening has an insert with adjustable height, and additional vertical wrapped partition.
EFFECT: multi-layer films with different properties of the layers may be produced and manufacturing capability increases.
Translated title of the contributionMETHOD, AND APPARATUS FOR MULTI-LAYER FILM PRODUCTION AND MULTI-LAYER STRUCTURE PRODUCED BY THEIR MEANS: patent of invention
Original languageRussian
Patent number2451769
IPCC23C 14/34,C23C 14/54
Filing date22/12/2009
Publication statusPublished - 27 May 2012

Fingerprint

inventions
patents
laminates
sputtering
ratings
magnetic fields
production engineering
metallurgy
bedrock
inserts
holders
gas pressure
partitions
ions
manufacturing
cathodes
vacuum
gases

Cite this

@misc{f84bdb3fedfd43498755179a143b195c,
title = "СПОСОБ, УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ ПЛЕНОК И МНОГОСЛОЙНАЯ СТРУКТУРА, ПОЛУЧЕННАЯ С ИХ ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ: патент на изобретение",
abstract = "Изобретение относится к области ионно-плазменного напыления многослойных пленок. Согласно способу получения пленок осуществляют ионно-плазменное напыление материала мишени на подложку в вакууме при приложении магнитного поля. При этом предварительно устанавливают зависимость характеристик материала напыляемого слоя от величины давления распыляющего газа. Напыление осуществляют при величине давления, а также величине и/или ориентации прикладываемого магнитного поля, необходимых для получения заданных характеристик материала напыляемого слоя. Причем по крайней мере два слоя напыляют из одной мишени при разных давлениях распыляющего газа. Устройство для получения пленок содержит экранированную катод-мишень и подложкодержатель, расположенный в горизонтальном магнитном поле с возможностью изменения ориентации поля. Экран выполнен регулируемым по высоте с по крайней мере двумя отверстиями для распыляемого материала. При этом каждое отверстие имеет регулируемую по высоте вставку, а по вертикали отверстия разделены дополнительной изолированной перегородкой. Технический результат - получение многослойных пленок с различными свойствами слоев и расширение технологических возможностей.",
author = "Васьковский, {Владимир Олегович} and Савин, {Петр Алексеевич} and Курляндская, {Галина Владимировна} and Свалов, {Андрей Владимирович} and Сорокин, {Александр Николаевич}",
year = "2012",
month = "5",
day = "27",
language = "Русский",
publisher = "Федеральный институт промышленной собственности",
address = "Российская Федерация",
type = "Patent",
note = "2451769 ; C23C 14/34,C23C 14/54",

}

TY - PAT

T1 - СПОСОБ, УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ ПЛЕНОК И МНОГОСЛОЙНАЯ СТРУКТУРА, ПОЛУЧЕННАЯ С ИХ ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ

T2 - патент на изобретение

AU - Васьковский, Владимир Олегович

AU - Савин, Петр Алексеевич

AU - Курляндская, Галина Владимировна

AU - Свалов, Андрей Владимирович

AU - Сорокин, Александр Николаевич

PY - 2012/5/27

Y1 - 2012/5/27

N2 - Изобретение относится к области ионно-плазменного напыления многослойных пленок. Согласно способу получения пленок осуществляют ионно-плазменное напыление материала мишени на подложку в вакууме при приложении магнитного поля. При этом предварительно устанавливают зависимость характеристик материала напыляемого слоя от величины давления распыляющего газа. Напыление осуществляют при величине давления, а также величине и/или ориентации прикладываемого магнитного поля, необходимых для получения заданных характеристик материала напыляемого слоя. Причем по крайней мере два слоя напыляют из одной мишени при разных давлениях распыляющего газа. Устройство для получения пленок содержит экранированную катод-мишень и подложкодержатель, расположенный в горизонтальном магнитном поле с возможностью изменения ориентации поля. Экран выполнен регулируемым по высоте с по крайней мере двумя отверстиями для распыляемого материала. При этом каждое отверстие имеет регулируемую по высоте вставку, а по вертикали отверстия разделены дополнительной изолированной перегородкой. Технический результат - получение многослойных пленок с различными свойствами слоев и расширение технологических возможностей.

AB - Изобретение относится к области ионно-плазменного напыления многослойных пленок. Согласно способу получения пленок осуществляют ионно-плазменное напыление материала мишени на подложку в вакууме при приложении магнитного поля. При этом предварительно устанавливают зависимость характеристик материала напыляемого слоя от величины давления распыляющего газа. Напыление осуществляют при величине давления, а также величине и/или ориентации прикладываемого магнитного поля, необходимых для получения заданных характеристик материала напыляемого слоя. Причем по крайней мере два слоя напыляют из одной мишени при разных давлениях распыляющего газа. Устройство для получения пленок содержит экранированную катод-мишень и подложкодержатель, расположенный в горизонтальном магнитном поле с возможностью изменения ориентации поля. Экран выполнен регулируемым по высоте с по крайней мере двумя отверстиями для распыляемого материала. При этом каждое отверстие имеет регулируемую по высоте вставку, а по вертикали отверстия разделены дополнительной изолированной перегородкой. Технический результат - получение многослойных пленок с различными свойствами слоев и расширение технологических возможностей.

UR - https://elibrary.ru/item.asp?id=37764923

M3 - Патент

M1 - 2451769

Y2 - 2009/12/22

PB - Федеральный институт промышленной собственности

ER -