Resultados de investigaciones por año
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Huella digital
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Red
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Plasma Enhanced High-Rate Deposition of Advanced Film Materials by Metal Reactive Evaporation in Organosilicon Vapors
Menshakov, A., Bruhanova, Y., Skorynina, P. & Medvedev, A., 2023, En: Membranes. 13, 4, 374.Resultado de la investigación: Article › revisión exhaustiva
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Characteristics of the method of deposition of TiN coatings by anodic evaporation of titanium in a low-pressure arc discharge
Bryuhanova, Y. A. & Menshakov, A. I., 10 jun 2022, VIII International Young Researchers'' Conference - Physics, Technology, Innovations, PTI 2021. Volkovich, V. A., Kashin, I. V., Smirnov, A. A. & Narkhov, E. D. (eds.). American Institute of Physics Inc., 030018. (AIP Conference Proceedings; vol. 2466).Resultado de la investigación: Conference contribution › revisión exhaustiva
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Synthesis of Nanocomposite TiSiCN Coatings by Titanium Evaporation and Organosilicon Compound Activation in Hollow Cathode Arc Discharge
Menshakov, A. I., Bruhanova, Y. A., Kukharenko, A. I. & Zhidkov, I. S., mar 2022, En: Membranes. 12, 3, 13 p., 321.Resultado de la investigación: Article › revisión exhaustiva
Acceso abierto -
Investigation of the plasma composition of a discharge with a self-heating hollow cathode and an active anode in a gas mixture with titanium and hexamethyldisilazane vapors
Menshakov, A. I., Bruhanova, Y. A., Surkov, Y. S. & Skorynina, P. A., 25 nov 2021, En: Journal of Physics: Conference Series. 2064, 1, 012046.Resultado de la investigación: Conference article › revisión exhaustiva
Acceso abierto -
Obtaining of TiSiCN coatings by anodic evaporation of titanium and decomposition of hexamethyldisilazane in a low-pressure arc discharge
Menshakov, A. I., Bruhanova, Y. A. & Skorynina, P. A., 29 jun 2021, En: Journal of Physics: Conference Series. 1954, 1, 012032.Resultado de la investigación: Conference article › revisión exhaustiva
Acceso abierto
Prensa/Medios de comunicación
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Researcher at Institute of Electrophysics Publishes Research in Membrane Research (Plasma Enhanced High-Rate Deposition of Advanced Film Materials by Metal Reactive Evaporation in Organosilicon Vapors)
10/04/2023
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