Al2O3 thin films deposition by reactive evaporation of Al in anodic arc with high levels of metal ionization

N. V. Gavrilov, A. S. Kamenetskikh, P. V. Trernikov, D. R. Emlin, A. V. Chukin, Yu S. Surkov

Resultado de la investigación: Articlerevisión exhaustiva

7 Citas (Scopus)
Idioma originalEnglish
Páginas (desde-hasta)117-124
Número de páginas8
PublicaciónSurface and Coatings Technology
Volumen359
DOI
EstadoPublished - 15 feb 2019

ASJC Scopus subject areas

  • Chemistry(all)
  • Condensed Matter Physics
  • Surfaces and Interfaces
  • Surfaces, Coatings and Films
  • Materials Chemistry

WoS ResearchAreas Categories

  • Materials Science, Coatings & Films
  • Physics, Applied

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> thin films deposition by reactive evaporation of Al in anodic arc with high levels of metal ionization'. En conjunto forman una huella única.

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