Al2O3 thin films deposition by reactive evaporation of Al in anodic arc with high levels of metal ionization

N. V. Gavrilov, A. S. Kamenetskikh, P. V. Trernikov, D. R. Emlin, A. V. Chukin, Yu S. Surkov

Resultado de la investigación: Articlerevisión exhaustiva

7 Citas (Scopus)

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> thin films deposition by reactive evaporation of Al in anodic arc with high levels of metal ionization'. En conjunto forman una huella única.

Технические дисциплины и материаловедение

Физика и астрономия

Химические соединения