Reactive Deposition of Al2O3 Coatings by Thermal Evaporation in a High-Current Discharge with a Hollow Anode

A. S. Kamenetskikh, N. V. Gavrilov, Yu S. Surkov, P. V. Tretnikov, A. V. Chukin

Resultado de la investigación: Articlerevisión exhaustiva

1 Cita (Scopus)
Idioma originalEnglish
Páginas (desde-hasta)85-91
Número de páginas7
PublicaciónJournal of Surface Investigation
Volumen14
N.º1
DOI
EstadoPublished - 1 ene 2020

ASJC Scopus subject areas

  • Surfaces, Coatings and Films

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  • Physics, Condensed Matter

GRNTI

  • 29.00.00 PHYSICS

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Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Reactive Deposition of Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> Coatings by Thermal Evaporation in a High-Current Discharge with a Hollow Anode'. En conjunto forman una huella única.

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