ВЛИЯНИЕ РН НА КИНЕТИКУ ЭЛЕКТРОВОССТАНОВЛЕНИЯ МЕДИ ИЗ АЦЕТАТНЫХ И СУЛЬФОСАЛИЦИЛАТНЫХ КОМПЛЕКСНЫХ РАСТВОРОВ

Resultado de pesquisa: Articlerevisão de pares

Resumo

Предложен метод расчета парциальных токов, характеризующих разряд отдельных комплексных ионов меди в ацетатном и сульфосалицилатном растворах. С использованием данного метода и результатов аналитического расчета состава растворов в зависимости от рН определены константы скоростей реакций электровосстановления разных форм комплексов меди. Мелкокристаллические осадки с высокой адгезией к поверхности получены из ацетатного (рН = 4.7) и сульфосалицилатного (рН = 6.6) растворов, в которых электровосстановление протекает при высокой поляризации, обусловленной низкими константами скорости разряда анионных комплексов меди.
Título traduzido da contribuiçãoEffect of pH on the electrodeposition kinetics of copper from acetate and sulfosalicylate complex solutions
Idioma originalRussian
Páginas (de-até)1498
Número de páginas1
RevistaИзвестия Академии наук. Серия химическая
Número de emissão7
Estado da publicaçãoPublished - 2014

GRNTI

  • 31.15.00

Level of Research Output

  • VAK List

Citar isto