Al2O3 thin films deposition by reactive evaporation of Al in anodic arc with high levels of metal ionization

N. V. Gavrilov, A. S. Kamenetskikh, P. V. Trernikov, D. R. Emlin, A. V. Chukin, Yu S. Surkov

Resultado de pesquisa: Articlerevisão de pares

6 Citações (Scopus)
Idioma originalEnglish
Páginas (de-até)117-124
Número de páginas8
RevistaSurface and Coatings Technology
Volume359
DOIs
Estado da publicaçãoPublished - 15 fev 2019

ASJC Scopus subject areas

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