Al2O3 thin films deposition by reactive evaporation of Al in anodic arc with high levels of metal ionization

N. V. Gavrilov, A. S. Kamenetskikh, P. V. Trernikov, D. R. Emlin, A. V. Chukin, Yu S. Surkov

Resultado de pesquisa: Articlerevisão de pares

7 Citações (Scopus)

Impressão digital

Mergulhe nos tópicos de investigação de “Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> thin films deposition by reactive evaporation of Al in anodic arc with high levels of metal ionization“. Em conjunto formam uma impressão digital única.

Химические соединения

Технические дисциплины и материаловедение

Физика и астрономия