ИССЛЕДОВАНИЕ ПОКРЫТИЙ TiAlSiN ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ РЕАКТИВНОГО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ В УСЛОВИЯХ СИЛЬНОТОЧНОГО ИОННОГО АССИСТИРОВАНИЯ

Результат исследований: Вклад в журналСтатьяНаучно-исследовательскаярецензирование

Аннотация

Методом реактивного магнетронного распыления однокомпонентных мишеней с регулируемым в широких пределах (5-25) отношением плотностей тока ионов ] 1 и потока атомов ] 'п на поверхности образцов получены нанокомпозитные покрытия из TiAlSiN. Для генерации плазмы в камере нанесения покрытий использовали широкий (80 см2) пучок низкоэнергетических (100 эВ) электронов. Ток пучка электронов изменялся от 5 до 30 А, что обеспечивало регулировку значения ] 1 в диапазоне от 1.8 до 9 мА/см2. Показано, что увеличение соотношения ji/jn сопровождается немонотонным изменением твердости и текстуры покрытий под действием внутренних напряжений. Установлено, что превышение величины ji/jn, при которой достигается наибольшая твердость покрытий (43 ГПа), приводит к релаксации внутренних напряжений и снижению твердости до 36 ГПа.
Переведенное названиеInvestigation of TiAlSiN Coatings Deposited by Reactive Magnetron Sputtering under High-Current Ion Assistance
ЯзыкРусский
Страницы106-112
Число страниц7
ЖурналПоверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования
Номер выпуска6
DOI
СостояниеОпубликовано - 2017

Отпечаток

Reactive sputtering
Magnetron sputtering
Coatings
Hardness
Ions
Residual stresses
Stress relaxation
Nanocomposites
Current density
Textures
Fluxes
Plasmas
Atoms
Electrons

ГРНТИ

  • 29.00.00 ФИЗИКА

Уровень публикации

  • Перечень ВАК

Цитировать

@article{88a60cb6d92a4f94aac55b3f31c1d613,
title = "ИССЛЕДОВАНИЕ ПОКРЫТИЙ TiAlSiN ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ РЕАКТИВНОГО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ В УСЛОВИЯХ СИЛЬНОТОЧНОГО ИОННОГО АССИСТИРОВАНИЯ",
abstract = "Методом реактивного магнетронного распыления однокомпонентных мишеней с регулируемым в широких пределах (5-25) отношением плотностей тока ионов ] 1 и потока атомов ] 'п на поверхности образцов получены нанокомпозитные покрытия из TiAlSiN. Для генерации плазмы в камере нанесения покрытий использовали широкий (80 см2) пучок низкоэнергетических (100 эВ) электронов. Ток пучка электронов изменялся от 5 до 30 А, что обеспечивало регулировку значения ] 1 в диапазоне от 1.8 до 9 мА/см2. Показано, что увеличение соотношения ji/jn сопровождается немонотонным изменением твердости и текстуры покрытий под действием внутренних напряжений. Установлено, что превышение величины ji/jn, при которой достигается наибольшая твердость покрытий (43 ГПа), приводит к релаксации внутренних напряжений и снижению твердости до 36 ГПа.",
author = "Н.В. Гаврилов and А.С. Каменецких and А.В. Чукин",
year = "2017",
doi = "10.7868/80207352817060105",
language = "Русский",
pages = "106--112",
journal = "Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования",
issn = "0207-3528",
publisher = "Издательство {"}Наука{"}",
number = "6",

}

TY - JOUR

T1 - ИССЛЕДОВАНИЕ ПОКРЫТИЙ TiAlSiN ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ РЕАКТИВНОГО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ В УСЛОВИЯХ СИЛЬНОТОЧНОГО ИОННОГО АССИСТИРОВАНИЯ

AU - Гаврилов, Н.В.

AU - Каменецких, А.С.

AU - Чукин, А.В.

PY - 2017

Y1 - 2017

N2 - Методом реактивного магнетронного распыления однокомпонентных мишеней с регулируемым в широких пределах (5-25) отношением плотностей тока ионов ] 1 и потока атомов ] 'п на поверхности образцов получены нанокомпозитные покрытия из TiAlSiN. Для генерации плазмы в камере нанесения покрытий использовали широкий (80 см2) пучок низкоэнергетических (100 эВ) электронов. Ток пучка электронов изменялся от 5 до 30 А, что обеспечивало регулировку значения ] 1 в диапазоне от 1.8 до 9 мА/см2. Показано, что увеличение соотношения ji/jn сопровождается немонотонным изменением твердости и текстуры покрытий под действием внутренних напряжений. Установлено, что превышение величины ji/jn, при которой достигается наибольшая твердость покрытий (43 ГПа), приводит к релаксации внутренних напряжений и снижению твердости до 36 ГПа.

AB - Методом реактивного магнетронного распыления однокомпонентных мишеней с регулируемым в широких пределах (5-25) отношением плотностей тока ионов ] 1 и потока атомов ] 'п на поверхности образцов получены нанокомпозитные покрытия из TiAlSiN. Для генерации плазмы в камере нанесения покрытий использовали широкий (80 см2) пучок низкоэнергетических (100 эВ) электронов. Ток пучка электронов изменялся от 5 до 30 А, что обеспечивало регулировку значения ] 1 в диапазоне от 1.8 до 9 мА/см2. Показано, что увеличение соотношения ji/jn сопровождается немонотонным изменением твердости и текстуры покрытий под действием внутренних напряжений. Установлено, что превышение величины ji/jn, при которой достигается наибольшая твердость покрытий (43 ГПа), приводит к релаксации внутренних напряжений и снижению твердости до 36 ГПа.

UR - http://elibrary.ru/item.asp?id=29404688

U2 - 10.7868/80207352817060105

DO - 10.7868/80207352817060105

M3 - Статья

SP - 106

EP - 112

JO - Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования

T2 - Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования

JF - Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования

SN - 0207-3528

IS - 6

ER -