ИССЛЕДОВАНИЕ ПОКРЫТИЙ TiAlSiN ПОЛУЧЕННЫХ МЕТОДОМ РЕАКТИВНОГО МАГНЕТРОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ В УСЛОВИЯХ СИЛЬНОТОЧНОГО ИОННОГО АССИСТИРОВАНИЯ

Методом реактивного магнетронного распыления однокомпонентных мишеней с регулируемым в широких пределах (5-25) отношением плотностей тока ионов ] 1 и потока атомов ] 'п на поверхности образцов получены нанокомпозитные покрытия из TiAlSiN. Для генерации плазмы в камере нанесения покрытий использовали широкий (80 см2) пучок низкоэнергетических (100 эВ) электронов. Ток пучка электронов изменялся от 5 до 30 А, что обеспечивало регулировку значения ] 1 в диапазоне от 1.8 до 9 мА/см2. Показано, что увеличение соотношения ji/jn сопровождается немонотонным изменением твердости и текстуры покрытий под действием внутренних напряжений. Установлено, что превышение величины ji/jn, при которой достигается наибольшая твердость покрытий (43 ГПа), приводит к релаксации внутренних напряжений и снижению твердости до 36 ГПа.