ОПТИМИЗАЦИЯ СОСТАВА ФОТОКОМПОЗИЦИИ ДЛЯ АКТИВАЦИИ ДИЭЛЕКТРИКОВ ПЕРЕД ХИМИЧЕСКОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИЕЙ

Результат исследований: Вклад в журналСтатьяНаучно-исследовательскаярецензирование

Аннотация

В технологии производства печатных плат аддитивным методом фотоселективная активации диэлектрических материалов находит широкое применение. Фотоаддитивная технология - это сложный многостадийный процесс. Для получения заданного рисунка схемы на поверхности и в отверстиях печатной платы необходимо сформировать каталитически активные центры для дальнейшей химической металлизации. Исследуемые фоточувствительные композиции для активации диэлектриков являются сложными многокомпонентными системами, включающими фотопромотор (ацетат меди), оптический сенсибили-затор (натриевые соли антрахинонсульфокислот), вторичный восстановитель (сорбит, этиловый спирт, двухлористое олово), компонент, препятствующий процессу гидролиза фотопромотора и поддержи-вающий значение рН раствора на заданном уровне. Целью исследований являлась оптимизация состава фотокомпозиции путем сокращение числа компонентов. По сравнению с растворами изучение процесса фотовосстановления меди(II) в сухом слое фотоактиватора под действием ультрафиолетового облучения требует специального подхода. По аналогии с исследованиями, проводимыми для фотографических процессов, критерием оценки глубины процесса фотовосстановления меди(II) были выбраны оптические характеристики фоточувствительного слоя. Установлено, что спектры пропускания фоточувствительного слоя являются более информативными, чем спектры отражения. На спектрах пропускания фоточувствительного слоя, явно можно выделить максимум на длине волны 520 нм, по изменению которого в процессе ультрафиолетового облучения можно судить о ходе фотохимического превращения в сухом слое фотокомпозиции. Спектры отражения фоточувстви-тельного слоя в видимой области спектра не имеют максимума. Разработана методика изучения и оценки протекания фотохимического процесса на поверхности диэлектрического материала с целью оптимизации состава фоточувствительной композиции. Экспери-ментальным путем установлено, что на оптические характеристики облученного сухого фоточувстви-тельного слоя, нанесенного на поверхность диэлектрика, большое влияние оказывает структура подготовленной поверхности диэлектрика. Для исключения влияние этого фактора, в качестве модельного материала, была выбрана хроматографическая бумага марки FN-5. Она обладает одинаковыми сорбционными свойствами по всей поверхности и позволяет закрепить значительное количество фотокомпозиции; не требует дополнительной подготовки поверхности перед проведением фотохими-ческого процесса. Исследованы кинетические закономерности фотовосстановления меди(II) в твердой фазе. Дано феноменологическое описание процесса в форме кинетических уравнений, объясняющих процесс фотоактивации применительно к любым фотокомпозициям и при использовании любых диэлектрических материалов. Дробные частные порядки реакции по компонентам фотокомпозиции свидетельствуют о сложности процесса в изучаемых системах. Описание кинетики фотохимического процесса с помощью математических уравнений позволяет заранее определить время, к которому будет достигнута заданная степень превращения вещества. Установлено, что для увеличения скорости процесса фотоактивации количество компонентов композиции необходимо сократить, удалив из ее состава, по возможности, компоненты с отрицательным порядком реакции.
Переведенное названиеOptimization of the photocomposition for dielectric activation before chemical metallization
Язык оригиналаРусский
Страницы (с-по)75-81
ЖурналБутлеровские сообщения
Том53
Номер выпуска3
СостояниеОпубликовано - 2018

Отпечаток

activation
optimization
copper
printed circuits
circuit boards
recovery
kinetics
complex systems
regularity
kinetic equations
ultraviolet radiation
fixing
photochemical reactions
sorption
hydrolysis
solid phases
acetates
tin
ethyl alcohol
diagrams

ГРНТИ

  • 31.00.00 ХИМИЯ

Уровень публикации

  • Перечень ВАК

Цитировать

@article{e3aa725b7b264fa0a746a811692048db,
title = "ОПТИМИЗАЦИЯ СОСТАВА ФОТОКОМПОЗИЦИИ ДЛЯ АКТИВАЦИИ ДИЭЛЕКТРИКОВ ПЕРЕД ХИМИЧЕСКОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИЕЙ",
abstract = "В технологии производства печатных плат аддитивным методом фотоселективная активации диэлектрических материалов находит широкое применение. Фотоаддитивная технология - это сложный многостадийный процесс. Для получения заданного рисунка схемы на поверхности и в отверстиях печатной платы необходимо сформировать каталитически активные центры для дальнейшей химической металлизации. Исследуемые фоточувствительные композиции для активации диэлектриков являются сложными многокомпонентными системами, включающими фотопромотор (ацетат меди), оптический сенсибили-затор (натриевые соли антрахинонсульфокислот), вторичный восстановитель (сорбит, этиловый спирт, двухлористое олово), компонент, препятствующий процессу гидролиза фотопромотора и поддержи-вающий значение рН раствора на заданном уровне. Целью исследований являлась оптимизация состава фотокомпозиции путем сокращение числа компонентов. По сравнению с растворами изучение процесса фотовосстановления меди(II) в сухом слое фотоактиватора под действием ультрафиолетового облучения требует специального подхода. По аналогии с исследованиями, проводимыми для фотографических процессов, критерием оценки глубины процесса фотовосстановления меди(II) были выбраны оптические характеристики фоточувствительного слоя. Установлено, что спектры пропускания фоточувствительного слоя являются более информативными, чем спектры отражения. На спектрах пропускания фоточувствительного слоя, явно можно выделить максимум на длине волны 520 нм, по изменению которого в процессе ультрафиолетового облучения можно судить о ходе фотохимического превращения в сухом слое фотокомпозиции. Спектры отражения фоточувстви-тельного слоя в видимой области спектра не имеют максимума. Разработана методика изучения и оценки протекания фотохимического процесса на поверхности диэлектрического материала с целью оптимизации состава фоточувствительной композиции. Экспери-ментальным путем установлено, что на оптические характеристики облученного сухого фоточувстви-тельного слоя, нанесенного на поверхность диэлектрика, большое влияние оказывает структура подготовленной поверхности диэлектрика. Для исключения влияние этого фактора, в качестве модельного материала, была выбрана хроматографическая бумага марки FN-5. Она обладает одинаковыми сорбционными свойствами по всей поверхности и позволяет закрепить значительное количество фотокомпозиции; не требует дополнительной подготовки поверхности перед проведением фотохими-ческого процесса. Исследованы кинетические закономерности фотовосстановления меди(II) в твердой фазе. Дано феноменологическое описание процесса в форме кинетических уравнений, объясняющих процесс фотоактивации применительно к любым фотокомпозициям и при использовании любых диэлектрических материалов. Дробные частные порядки реакции по компонентам фотокомпозиции свидетельствуют о сложности процесса в изучаемых системах. Описание кинетики фотохимического процесса с помощью математических уравнений позволяет заранее определить время, к которому будет достигнута заданная степень превращения вещества. Установлено, что для увеличения скорости процесса фотоактивации количество компонентов композиции необходимо сократить, удалив из ее состава, по возможности, компоненты с отрицательным порядком реакции.",
author = "Брусницына, {Людмила Александровна} and Алексеева, {Татьяна Анатольевна} and Степановских, {Елена Ивановна}",
year = "2018",
language = "Русский",
volume = "53",
pages = "75--81",
journal = "Бутлеровские сообщения",
issn = "2074-0212",
publisher = "Общество с ограниченной ответственностью {"}Инновационно-издательский дом {"}Бутлеровское наследие{"}",
number = "3",

}

TY - JOUR

T1 - ОПТИМИЗАЦИЯ СОСТАВА ФОТОКОМПОЗИЦИИ ДЛЯ АКТИВАЦИИ ДИЭЛЕКТРИКОВ ПЕРЕД ХИМИЧЕСКОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИЕЙ

AU - Брусницына, Людмила Александровна

AU - Алексеева, Татьяна Анатольевна

AU - Степановских, Елена Ивановна

PY - 2018

Y1 - 2018

N2 - В технологии производства печатных плат аддитивным методом фотоселективная активации диэлектрических материалов находит широкое применение. Фотоаддитивная технология - это сложный многостадийный процесс. Для получения заданного рисунка схемы на поверхности и в отверстиях печатной платы необходимо сформировать каталитически активные центры для дальнейшей химической металлизации. Исследуемые фоточувствительные композиции для активации диэлектриков являются сложными многокомпонентными системами, включающими фотопромотор (ацетат меди), оптический сенсибили-затор (натриевые соли антрахинонсульфокислот), вторичный восстановитель (сорбит, этиловый спирт, двухлористое олово), компонент, препятствующий процессу гидролиза фотопромотора и поддержи-вающий значение рН раствора на заданном уровне. Целью исследований являлась оптимизация состава фотокомпозиции путем сокращение числа компонентов. По сравнению с растворами изучение процесса фотовосстановления меди(II) в сухом слое фотоактиватора под действием ультрафиолетового облучения требует специального подхода. По аналогии с исследованиями, проводимыми для фотографических процессов, критерием оценки глубины процесса фотовосстановления меди(II) были выбраны оптические характеристики фоточувствительного слоя. Установлено, что спектры пропускания фоточувствительного слоя являются более информативными, чем спектры отражения. На спектрах пропускания фоточувствительного слоя, явно можно выделить максимум на длине волны 520 нм, по изменению которого в процессе ультрафиолетового облучения можно судить о ходе фотохимического превращения в сухом слое фотокомпозиции. Спектры отражения фоточувстви-тельного слоя в видимой области спектра не имеют максимума. Разработана методика изучения и оценки протекания фотохимического процесса на поверхности диэлектрического материала с целью оптимизации состава фоточувствительной композиции. Экспери-ментальным путем установлено, что на оптические характеристики облученного сухого фоточувстви-тельного слоя, нанесенного на поверхность диэлектрика, большое влияние оказывает структура подготовленной поверхности диэлектрика. Для исключения влияние этого фактора, в качестве модельного материала, была выбрана хроматографическая бумага марки FN-5. Она обладает одинаковыми сорбционными свойствами по всей поверхности и позволяет закрепить значительное количество фотокомпозиции; не требует дополнительной подготовки поверхности перед проведением фотохими-ческого процесса. Исследованы кинетические закономерности фотовосстановления меди(II) в твердой фазе. Дано феноменологическое описание процесса в форме кинетических уравнений, объясняющих процесс фотоактивации применительно к любым фотокомпозициям и при использовании любых диэлектрических материалов. Дробные частные порядки реакции по компонентам фотокомпозиции свидетельствуют о сложности процесса в изучаемых системах. Описание кинетики фотохимического процесса с помощью математических уравнений позволяет заранее определить время, к которому будет достигнута заданная степень превращения вещества. Установлено, что для увеличения скорости процесса фотоактивации количество компонентов композиции необходимо сократить, удалив из ее состава, по возможности, компоненты с отрицательным порядком реакции.

AB - В технологии производства печатных плат аддитивным методом фотоселективная активации диэлектрических материалов находит широкое применение. Фотоаддитивная технология - это сложный многостадийный процесс. Для получения заданного рисунка схемы на поверхности и в отверстиях печатной платы необходимо сформировать каталитически активные центры для дальнейшей химической металлизации. Исследуемые фоточувствительные композиции для активации диэлектриков являются сложными многокомпонентными системами, включающими фотопромотор (ацетат меди), оптический сенсибили-затор (натриевые соли антрахинонсульфокислот), вторичный восстановитель (сорбит, этиловый спирт, двухлористое олово), компонент, препятствующий процессу гидролиза фотопромотора и поддержи-вающий значение рН раствора на заданном уровне. Целью исследований являлась оптимизация состава фотокомпозиции путем сокращение числа компонентов. По сравнению с растворами изучение процесса фотовосстановления меди(II) в сухом слое фотоактиватора под действием ультрафиолетового облучения требует специального подхода. По аналогии с исследованиями, проводимыми для фотографических процессов, критерием оценки глубины процесса фотовосстановления меди(II) были выбраны оптические характеристики фоточувствительного слоя. Установлено, что спектры пропускания фоточувствительного слоя являются более информативными, чем спектры отражения. На спектрах пропускания фоточувствительного слоя, явно можно выделить максимум на длине волны 520 нм, по изменению которого в процессе ультрафиолетового облучения можно судить о ходе фотохимического превращения в сухом слое фотокомпозиции. Спектры отражения фоточувстви-тельного слоя в видимой области спектра не имеют максимума. Разработана методика изучения и оценки протекания фотохимического процесса на поверхности диэлектрического материала с целью оптимизации состава фоточувствительной композиции. Экспери-ментальным путем установлено, что на оптические характеристики облученного сухого фоточувстви-тельного слоя, нанесенного на поверхность диэлектрика, большое влияние оказывает структура подготовленной поверхности диэлектрика. Для исключения влияние этого фактора, в качестве модельного материала, была выбрана хроматографическая бумага марки FN-5. Она обладает одинаковыми сорбционными свойствами по всей поверхности и позволяет закрепить значительное количество фотокомпозиции; не требует дополнительной подготовки поверхности перед проведением фотохими-ческого процесса. Исследованы кинетические закономерности фотовосстановления меди(II) в твердой фазе. Дано феноменологическое описание процесса в форме кинетических уравнений, объясняющих процесс фотоактивации применительно к любым фотокомпозициям и при использовании любых диэлектрических материалов. Дробные частные порядки реакции по компонентам фотокомпозиции свидетельствуют о сложности процесса в изучаемых системах. Описание кинетики фотохимического процесса с помощью математических уравнений позволяет заранее определить время, к которому будет достигнута заданная степень превращения вещества. Установлено, что для увеличения скорости процесса фотоактивации количество компонентов композиции необходимо сократить, удалив из ее состава, по возможности, компоненты с отрицательным порядком реакции.

UR - https://elibrary.ru/item.asp?id=32669938

M3 - Статья

VL - 53

SP - 75

EP - 81

JO - Бутлеровские сообщения

JF - Бутлеровские сообщения

SN - 2074-0212

IS - 3

ER -