ОПТИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ТОНКИХ ПЛЕНОК SIO--X-- (X<2), ПОЛУЧЕННЫХ ОБРАБОТКОЙ ТЕРМИЧЕСКОГО ДИОКСИДА КРЕМНИЯ В ВОДОРОДНОЙ ПЛАЗМЕ

В. Н. Кручинин, Т. В. Перевалов, В. Ш. Алиев, Р. М. Х. Исхакзай, Е. В. Спесивцев, В. А. Гриценко, Владимир Алексеевич Пустоваров

Результат исследований: Вклад в журналСтатья

Аннотация

Методами эллипсометрии, квантово-химического моделирования и фотолюминесцентной спектроскопии проведено исследование оптических свойств и состава тонких плeнок термического оксида кремния, обработанных в водородной плазме электрон-циклотронного резонанса. Установлено, что обработка плeнок в плазме приводит к их обеднению кислородом и образованию нестехиометрического оксида SiO--x<2--. Путeм сопоставления экспериментальной спектральной зависимости показателя преломления с теоретически рассчитанной из первых принципов определены значения параметра x в полученных плeнках SiO--x--. Показано, что увеличение времени обработки термического SiO--2-- в водородной плазме приводит к увеличению показателя преломления плeнки, а также степени обеднения плeнки кислородом. Для исследуемых плeнок построена зависимость параметра x от времени обработки в водородной плазме. Ключевые слова: оксид кремния, эллипсометрия, фотолюминесценция, квантово-химическое моделирование.
Переведенное названиеOPTICAL PROPERTIES OF THIN FILMS OF SIOX (X<2), OBTAINED BY EXPOSURE OF THERMAL SILICON DIOXIDE IN HYDROGEN PLASMA
Язык оригиналаРусский
Страницы (с-по)1467-1472
Число страниц7
ЖурналОптика и спектроскопия
Том128
Номер выпуска10
DOI
СостояниеОпубликовано - 2020

ГРНТИ

  • 29.00.00 ФИЗИКА

Уровень публикации

  • Перечень ВАК

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «ОПТИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ТОНКИХ ПЛЕНОК SIO-<sub>-X-</sub>- (X<2), ПОЛУЧЕННЫХ ОБРАБОТКОЙ ТЕРМИЧЕСКОГО ДИОКСИДА КРЕМНИЯ В ВОДОРОДНОЙ ПЛАЗМЕ». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать