ОСАЖДЕНИЕ ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ КАРБОНИТРИДА КРЕМНИЯ В ПЛАЗМЕ СИЛЬНОТОЧНОГО РАЗРЯДА С САМОНАКАЛИВАЕМЫМ ПОЛЫМ КАТОДОМ

Андрей Игоревич Меньшаков; Даниил Рафаилович Емлин; Николай Васильевич Гаврилов; Юрий Сергеевич Сурков; Сеиф Османович Чолах

ОСАЖДЕНИЕ ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ КАРБОНИТРИДА КРЕМНИЯ В ПЛАЗМЕ СИЛЬНОТОЧНОГО РАЗРЯДА С САМОНАКАЛИВАЕМЫМ ПОЛЫМ КАТОДОМ

Андрей Игоревич Меньшаков, Даниил Рафаилович Емлин, Николай Васильевич Гаврилов , Юрий Сергеевич Сурков, Сеиф Османович Чолах

Результат исследований: Вклад в журнал › Статья › рецензирование

Аннотация

Исследован способ низкотемпературного (< 200 ºС) осаждения покрытий на основе SiCN в камере большого объема (0.3 м3) разложением кремнийорганического прекурсора в азотной плазме разряда с самонакаливаемым полым катодом и удалённо расположенным анодом (40 см) при давлении ~ 0.06 Па. Изучено влияние тока разряда (10-30 А), потока газовой смеси (3-6 см3/мин - гексаметилдисилазан и 30 см3/мин - азот) и расположения образцов в камере на скорость осаждения (до 5 мкм/ч), микротвердость (3-9 ГПа), внутренние напряжения (1-2 ГПа). Определены размеры зоны обработки образцов ( h 300´ d 120- D 180 мм), в которой неоднородность покрытия по толщине не превышает 20 %. Проведен анализ состава покрытий методом ИК-спектроскопии и анализ состава плазмы оптической эмиссионной спектроскопией. Показано, что с ростом тока увеличивается степень разложения молекул прекурсора. Максимальная твердость достигнута при токе разряда 20 А на образцах, расположенных на расстоянии 12 см от испарителя.

Переведенное название	Deposition of silicon carbonitride coatings in the plasma of high-current discharge with self-heated hollow cathode
Язык оригинала	Русский
Страницы (с-по)	168-172
Число страниц	5
Журнал	Известия высших учебных заведений. Физика
Том	61
Номер выпуска	8-2 (728)
Состояние	Опубликовано - 2018

ГРНТИ

29.00.00 ФИЗИКА

Уровень публикации

Перечень ВАК

Другие файлы и ссылки

https://elibrary.ru/item.asp?id=36517111

Fingerprint

Подробные сведения о темах исследования «ОСАЖДЕНИЕ ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ КАРБОНИТРИДА КРЕМНИЯ В ПЛАЗМЕ СИЛЬНОТОЧНОГО РАЗРЯДА С САМОНАКАЛИВАЕМЫМ ПОЛЫМ КАТОДОМ». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать

Меньшаков, А. И., Емлин, Д. Р., Гаврилов , Н. В., Сурков, Ю. С., & Чолах, С. О. (2018). ОСАЖДЕНИЕ ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ КАРБОНИТРИДА КРЕМНИЯ В ПЛАЗМЕ СИЛЬНОТОЧНОГО РАЗРЯДА С САМОНАКАЛИВАЕМЫМ ПОЛЫМ КАТОДОМ. Известия высших учебных заведений. Физика, 61(8-2 (728)), 168-172.

Меньшаков, Андрей Игоревич ; Емлин, Даниил Рафаилович ; Гаврилов , Николай Васильевич ; Сурков, Юрий Сергеевич ; Чолах, Сеиф Османович. / ОСАЖДЕНИЕ ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ КАРБОНИТРИДА КРЕМНИЯ В ПЛАЗМЕ СИЛЬНОТОЧНОГО РАЗРЯДА С САМОНАКАЛИВАЕМЫМ ПОЛЫМ КАТОДОМ. В: Известия высших учебных заведений. Физика. 2018 ; Том 61, № 8-2 (728). стр. 168-172.

@article{423257409f53423d961ab1a9ec854f38,

title = "ОСАЖДЕНИЕ ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ КАРБОНИТРИДА КРЕМНИЯ В ПЛАЗМЕ СИЛЬНОТОЧНОГО РАЗРЯДА С САМОНАКАЛИВАЕМЫМ ПОЛЫМ КАТОДОМ",

abstract = "Исследован способ низкотемпературного (< 200 ºС) осаждения покрытий на основе SiCN в камере большого объема (0.3 м3) разложением кремнийорганического прекурсора в азотной плазме разряда с самонакаливаемым полым катодом и удалённо расположенным анодом (40 см) при давлении ~ 0.06 Па. Изучено влияние тока разряда (10-30 А), потока газовой смеси (3-6 см3/мин - гексаметилдисилазан и 30 см3/мин - азот) и расположения образцов в камере на скорость осаждения (до 5 мкм/ч), микротвердость (3-9 ГПа), внутренние напряжения (1-2 ГПа). Определены размеры зоны обработки образцов ( h 300´ d 120- D 180 мм), в которой неоднородность покрытия по толщине не превышает 20 %. Проведен анализ состава покрытий методом ИК-спектроскопии и анализ состава плазмы оптической эмиссионной спектроскопией. Показано, что с ростом тока увеличивается степень разложения молекул прекурсора. Максимальная твердость достигнута при токе разряда 20 А на образцах, расположенных на расстоянии 12 см от испарителя.",

author = "Меньшаков, {Андрей Игоревич} and Емлин, {Даниил Рафаилович} and Гаврилов, {Николай Васильевич} and Сурков, {Юрий Сергеевич} and Чолах, {Сеиф Османович}",

year = "2018",

language = "Русский",

volume = "61",

pages = "168--172",

journal = "Известия высших учебных заведений. Физика",

issn = "0021-3411",

publisher = "Национальный исследовательский Томский государственный университет",

number = "8-2 (728)",

}

Меньшаков, АИ , Емлин, ДР, Гаврилов , НВ, Сурков, ЮС & Чолах, СО 2018, 'ОСАЖДЕНИЕ ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ КАРБОНИТРИДА КРЕМНИЯ В ПЛАЗМЕ СИЛЬНОТОЧНОГО РАЗРЯДА С САМОНАКАЛИВАЕМЫМ ПОЛЫМ КАТОДОМ', Известия высших учебных заведений. Физика, том. 61, № 8-2 (728), стр. 168-172.

ОСАЖДЕНИЕ ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ КАРБОНИТРИДА КРЕМНИЯ В ПЛАЗМЕ СИЛЬНОТОЧНОГО РАЗРЯДА С САМОНАКАЛИВАЕМЫМ ПОЛЫМ КАТОДОМ. / Меньшаков, Андрей Игоревич ; Емлин, Даниил Рафаилович; Гаврилов , Николай Васильевич; Сурков, Юрий Сергеевич; Чолах, Сеиф Османович.

В: Известия высших учебных заведений. Физика, Том 61, № 8-2 (728), 2018, стр. 168-172.

Результат исследований: Вклад в журнал › Статья › рецензирование

TY - JOUR

T1 - ОСАЖДЕНИЕ ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ КАРБОНИТРИДА КРЕМНИЯ В ПЛАЗМЕ СИЛЬНОТОЧНОГО РАЗРЯДА С САМОНАКАЛИВАЕМЫМ ПОЛЫМ КАТОДОМ

AU - Меньшаков, Андрей Игоревич

AU - Емлин, Даниил Рафаилович

AU - Гаврилов , Николай Васильевич

AU - Сурков, Юрий Сергеевич

AU - Чолах, Сеиф Османович

PY - 2018

Y1 - 2018

N2 - Исследован способ низкотемпературного (< 200 ºС) осаждения покрытий на основе SiCN в камере большого объема (0.3 м3) разложением кремнийорганического прекурсора в азотной плазме разряда с самонакаливаемым полым катодом и удалённо расположенным анодом (40 см) при давлении ~ 0.06 Па. Изучено влияние тока разряда (10-30 А), потока газовой смеси (3-6 см3/мин - гексаметилдисилазан и 30 см3/мин - азот) и расположения образцов в камере на скорость осаждения (до 5 мкм/ч), микротвердость (3-9 ГПа), внутренние напряжения (1-2 ГПа). Определены размеры зоны обработки образцов ( h 300´ d 120- D 180 мм), в которой неоднородность покрытия по толщине не превышает 20 %. Проведен анализ состава покрытий методом ИК-спектроскопии и анализ состава плазмы оптической эмиссионной спектроскопией. Показано, что с ростом тока увеличивается степень разложения молекул прекурсора. Максимальная твердость достигнута при токе разряда 20 А на образцах, расположенных на расстоянии 12 см от испарителя.

AB - Исследован способ низкотемпературного (< 200 ºС) осаждения покрытий на основе SiCN в камере большого объема (0.3 м3) разложением кремнийорганического прекурсора в азотной плазме разряда с самонакаливаемым полым катодом и удалённо расположенным анодом (40 см) при давлении ~ 0.06 Па. Изучено влияние тока разряда (10-30 А), потока газовой смеси (3-6 см3/мин - гексаметилдисилазан и 30 см3/мин - азот) и расположения образцов в камере на скорость осаждения (до 5 мкм/ч), микротвердость (3-9 ГПа), внутренние напряжения (1-2 ГПа). Определены размеры зоны обработки образцов ( h 300´ d 120- D 180 мм), в которой неоднородность покрытия по толщине не превышает 20 %. Проведен анализ состава покрытий методом ИК-спектроскопии и анализ состава плазмы оптической эмиссионной спектроскопией. Показано, что с ростом тока увеличивается степень разложения молекул прекурсора. Максимальная твердость достигнута при токе разряда 20 А на образцах, расположенных на расстоянии 12 см от испарителя.

UR - https://elibrary.ru/item.asp?id=36517111

M3 - Статья

VL - 61

SP - 168

EP - 172

JO - Известия высших учебных заведений. Физика

JF - Известия высших учебных заведений. Физика

SN - 0021-3411

IS - 8-2 (728)

ER -

Меньшаков АИ , Емлин ДР, Гаврилов НВ, Сурков ЮС, Чолах СО. ОСАЖДЕНИЕ ПОКРЫТИЙ НА ОСНОВЕ КАРБОНИТРИДА КРЕМНИЯ В ПЛАЗМЕ СИЛЬНОТОЧНОГО РАЗРЯДА С САМОНАКАЛИВАЕМЫМ ПОЛЫМ КАТОДОМ. Известия высших учебных заведений. Физика. 2018;61(8-2 (728)):168-172.