ПОЛУЧЕНИЕ AL2O3 ПОКРЫТИЙ РЕАКЦИОННЫМ ТЕРМИЧЕСКИМ ИСПАРЕНИЕМ В ПЛАЗМЕ СИЛЬНОТОЧНОГО РАЗРЯДА С ПОЛЫМ АНОДОМ

Результат исследований: Вклад в журналСтатья

Аннотация

Исследованы условия нанесения Al2O3 покрытий в сильноточном разряде с испаряющимся анодом-тиглем и дополнительным полым анодом системы ионизации. Методами зондовой диагностики и оптической спектроскопии показано, что использование дополнительного полого анода обеспечивает увеличение плотности ионного тока на поверхности покрытий в ~2 раза и повышение концентрации атомарного кислорода в 1.6–2.6 раза. Методом реакционного анодного испарения получены нанокристаллические Al2O3 покрытия и определен диапазон рабочих параметров, в пределах которого при температуре 600°С формируется фаза α-Al2O3.
Переведенное названиеReactive Deposition of Al2O3 Coatings by Thermal Evaporation in a High-Current Discharge with a Hollow Anode
Язык оригиналаРусский
Страницы (с-по)98-105
Число страниц8
ЖурналПоверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования
Номер выпуска1
DOI
СостояниеОпубликовано - 2020

ГРНТИ

  • 29.00.00 ФИЗИКА

Уровень публикации

  • Перечень ВАК

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «ПОЛУЧЕНИЕ AL2O3 ПОКРЫТИЙ РЕАКЦИОННЫМ ТЕРМИЧЕСКИМ ИСПАРЕНИЕМ В ПЛАЗМЕ СИЛЬНОТОЧНОГО РАЗРЯДА С ПОЛЫМ АНОДОМ». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать