ПОЛУЧЕНИЕ TIN-ПОКРЫТИЙ РЕАКТИВНЫМ АНОДНЫМ ИСПАРЕНИЕМ ТИТАНА В РАЗРЯДЕ С САМОНАКАЛИВАЕМЫМ ПОЛЫМ КАТОДОМ

Результат исследований: Вклад в журналСтатьярецензирование

Аннотация

Предложен способ получения TiN-покрытий путем анодного испарения титана в газовом сильноточном разряде (30 А) с самонакаливаемым полым катодом в среде Ar+N2. Оптический спектральный анализ показывает, что в составе газоразрядной плазмы присутствует большое количество активированного титана, а доля ионов металла, поступающих из плазмы на подложку с учетом однозарядности ионов, достигает 70%. При потоке азота 5 cm3/min получены TiN-покрытия толщиной 2 μm с твердостью до 24 GPa. Скорость осаждения на расстоянии 7 cm от источника паров составила ~ 4 μm/h. Ключевые слова: нитрид титана, анодное испарение, самонакаливаемый полый катод, PVD.
Переведенное названиеDEPOSITION OF TIN-COATINGS BY REACTIVE ANODIC EVAPORATION OF TITANIUM IN A DISCHARGE WITH A SELF-HEATED HOLLOW CATHODE
Язык оригиналаРусский
Страницы (с-по)35-37
Число страниц3
ЖурналПисьма в Журнал технической физики
Том47
Номер выпуска10
DOI
СостояниеОпубликовано - 2021

ГРНТИ

  • 29.00.00 ФИЗИКА

Уровень публикации

  • Перечень ВАК

Fingerprint

Подробные сведения о темах исследования «ПОЛУЧЕНИЕ TIN-ПОКРЫТИЙ РЕАКТИВНЫМ АНОДНЫМ ИСПАРЕНИЕМ ТИТАНА В РАЗРЯДЕ С САМОНАКАЛИВАЕМЫМ ПОЛЫМ КАТОДОМ». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать