Аннотация
Рассмотрен процесс сенсибилизации пленок Pb0,975Sn0,025Se к ИК-излучению методом термической обработки на воздухе. Отжиг проводился в температурном диапазоне 403-723 K. Нагрев сопровождается рекристаллизацией агломератов, формирующих пленку. Показана взаимосвязь фоточувствительности слоев и температуры обработки. Пленки, сенсибилизированные в диапазоне температур 653-700 K, характеризуются наибольшей фоточувствительностью (80-140 мкВ). Увеличение темнового сопротивления и фоточувствительности, вероятно, связано с формированием оксидных фаз на поверхности микрокристаллитов пленки.
Язык оригинала | Русский |
---|---|
Страницы (с-по) | 1029-1033 |
Число страниц | 5 |
Журнал | Неорганические материалы |
Том | 53 |
Номер выпуска | 10 |
DOI | |
Состояние | Опубликовано - 2017 |
ГРНТИ
- 31.00.00 ХИМИЯ
Уровень публикации
- Перечень ВАК