СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ ПЛЕНОК PBSNSE К ИК-ИЗЛУЧЕНИЮ ТЕРМООБРАБОТКОЙ НА ВОЗДУХЕ

Наталья Александровна Третьякова

doi:10.7868/S0002337X17100013

СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ ПЛЕНОК PBSNSE К ИК-ИЗЛУЧЕНИЮ ТЕРМООБРАБОТКОЙ НА ВОЗДУХЕ

Результат исследований: Вклад в журнал › Статья › рецензирование

Аннотация

Рассмотрен процесс сенсибилизации пленок Pb0,975Sn0,025Se к ИК-излучению методом термической обработки на воздухе. Отжиг проводился в температурном диапазоне 403-723 K. Нагрев сопровождается рекристаллизацией агломератов, формирующих пленку. Показана взаимосвязь фоточувствительности слоев и температуры обработки. Пленки, сенсибилизированные в диапазоне температур 653-700 K, характеризуются наибольшей фоточувствительностью (80-140 мкВ). Увеличение темнового сопротивления и фоточувствительности, вероятно, связано с формированием оксидных фаз на поверхности микрокристаллитов пленки.

Язык оригинала	Русский
Страницы (с-по)	1029-1033
Число страниц	5
Журнал	Неорганические материалы
Том	53
Номер выпуска	10
DOI	https://doi.org/10.7868/S0002337X17100013
Состояние	Опубликовано - 2017

ГРНТИ

31.00.00 ХИМИЯ

Уровень публикации

Перечень ВАК

Ссылки

10.7868/S0002337X17100013

Другие файлы и ссылки

https://elibrary.ru/item.asp?id=30280924

Цитировать

@article{c445b581d08448a6859b9db73f093167,

title = "СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ ПЛЕНОК PBSNSE К ИК-ИЗЛУЧЕНИЮ ТЕРМООБРАБОТКОЙ НА ВОЗДУХЕ",

abstract = "Рассмотрен процесс сенсибилизации пленок Pb0,975Sn0,025Se к ИК-излучению методом термической обработки на воздухе. Отжиг проводился в температурном диапазоне 403-723 K. Нагрев сопровождается рекристаллизацией агломератов, формирующих пленку. Показана взаимосвязь фоточувствительности слоев и температуры обработки. Пленки, сенсибилизированные в диапазоне температур 653-700 K, характеризуются наибольшей фоточувствительностью (80-140 мкВ). Увеличение темнового сопротивления и фоточувствительности, вероятно, связано с формированием оксидных фаз на поверхности микрокристаллитов пленки.",

author = "Третьякова, {Наталья Александровна}",

year = "2017",

doi = "10.7868/S0002337X17100013",

language = "Русский",

volume = "53",

pages = "1029--1033",

journal = "Неорганические материалы",

issn = "0002-337X",

publisher = "Издательство {"}Наука{"}",

number = "10",

}

СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ ПЛЕНОК PBSNSE К ИК-ИЗЛУЧЕНИЮ ТЕРМООБРАБОТКОЙ НА ВОЗДУХЕ. / Третьякова, Наталья Александровна.

В: Неорганические материалы, Том 53, № 10, 2017, стр. 1029-1033.

Результат исследований: Вклад в журнал › Статья › рецензирование

TY - JOUR

T1 - СЕНСИБИЛИЗАЦИЯ ПЛЕНОК PBSNSE К ИК-ИЗЛУЧЕНИЮ ТЕРМООБРАБОТКОЙ НА ВОЗДУХЕ

AU - Третьякова, Наталья Александровна

PY - 2017

Y1 - 2017

N2 - Рассмотрен процесс сенсибилизации пленок Pb0,975Sn0,025Se к ИК-излучению методом термической обработки на воздухе. Отжиг проводился в температурном диапазоне 403-723 K. Нагрев сопровождается рекристаллизацией агломератов, формирующих пленку. Показана взаимосвязь фоточувствительности слоев и температуры обработки. Пленки, сенсибилизированные в диапазоне температур 653-700 K, характеризуются наибольшей фоточувствительностью (80-140 мкВ). Увеличение темнового сопротивления и фоточувствительности, вероятно, связано с формированием оксидных фаз на поверхности микрокристаллитов пленки.

AB - Рассмотрен процесс сенсибилизации пленок Pb0,975Sn0,025Se к ИК-излучению методом термической обработки на воздухе. Отжиг проводился в температурном диапазоне 403-723 K. Нагрев сопровождается рекристаллизацией агломератов, формирующих пленку. Показана взаимосвязь фоточувствительности слоев и температуры обработки. Пленки, сенсибилизированные в диапазоне температур 653-700 K, характеризуются наибольшей фоточувствительностью (80-140 мкВ). Увеличение темнового сопротивления и фоточувствительности, вероятно, связано с формированием оксидных фаз на поверхности микрокристаллитов пленки.

UR - https://elibrary.ru/item.asp?id=30280924

U2 - 10.7868/S0002337X17100013

DO - 10.7868/S0002337X17100013

M3 - Статья

VL - 53

SP - 1029

EP - 1033

JO - Неорганические материалы

JF - Неорганические материалы

SN - 0002-337X

IS - 10

ER -