ТЕРМОСТАБИЛЬНОСТЬ АТОМНЫХ И ЭЛЕКТРОННЫХ СТРУКТУР ПРИ ФОРМИРОВАНИИ ИНТЕРФЕЙСОВ ГРАФЕНА И СИЛИЦЕНА НА ПОДЛОЖКАХ МЕТАЛЛОВ: статья в сборнике статей

Э. Д. Курбанова, Валерий Анатольевич Полухин, Анна Борисовна Гусева, Наталия Сергеевна Митрофанова

Результат исследований: Глава в книге, отчете, сборнике статейГлава

Аннотация

На основе компьютерного моделирования термической эволюции интерфейсов графен/металл и силицен/металл (М: Ir, Au, Ag и др.) установлены критерии стабильности функциональных свойств этих интерфейсов при сохранении конуса Дирака, как условие достижения высоких скоростей электропереноса (включая легирование интеркалляцией калия).
Язык оригиналаРусский
Название основной публикацииФИЗИКА. ТЕХНОЛОГИИ. ИННОВАЦИИ
Подзаголовок основной публикациисборник научных трудов
РедакторыВ. Н. Рычков
Место публикацииЕкатеринбург
ИздательФедеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Уральский федеральный университет им. первого Президента России Б.Н. Ельцина"
Страницы129-137
Том1
ISBN (печатное издание)978-5-905227-08-0
СостояниеОпубликовано - 2015

ГРНТИ

  • 29.19.00 Физика твердых тел

Цитировать