УСТОЙЧИВОСТЬ ДВУХСЛОЙНОГО СИЛИЦЕНА НА НИКЕЛЕВОЙ ПОДЛОЖКЕ ПРИ ИНТЕРКАЛЯЦИИ ЛИТИЯ

Результат исследований: Вклад в журналСтатья

Аннотация

В молекулярно-динамическом эксперименте исследованы процессы литизации и делитизации совершенного и дефектного (содержащего моновакансии) силиценового канала, находящегося на подложке Ni(III). Показано, что такая система может существовать во времени, не разрушаясь, вплоть до 1 нс. Предельное количество ионов лития, интеркалируемых в канал, для модифицированного моновакансиями силицена на 20% выше, чем для бездефектной структуры. При этом, силиценовые листы не разрушаются и сохраняют свою целостность. Преимущественное наблюдаемое расположение атомов лития в канале – над центрами гексагональных кремниевых колец. В канале, образованном совершенным силиценом, коэффициент подвижности лития в два раза выше, чем в дефектной структуре. В целом, никель в качестве подложки для силиценового канала может выступать перспективным материалом с точки зрения достижения высокой динамической емкости силиценового электрода для литий-ионных батарей.
Язык оригиналаРусский
Страницы (с-по)404-415
Число страниц10
ЖурналФизика и химия стекла
Том46
Номер выпуска4
DOI
СостояниеОпубликовано - 2020

ГРНТИ

  • 31.00.00 ХИМИЯ

Уровень публикации

  • Перечень ВАК

Цитировать