ФОРМИРОВАНИЕ α-AL2O3-ПОКРЫТИЙ РЕАКЦИОННЫМ ИСПАРЕНИЕМ С ИНТЕНСИВНЫМ ИОННЫМ СОПРОВОЖДЕНИЕМ ПРИ 500-550 °С

Результат исследований: Вклад в журналСтатья

Аннотация

Представлены результаты исследования условий формирования и структуры α-фазы в Al2O3-покрытиях, полученных реакционным анодным испарением в дуговом разряде при низкой температуре (500-550 °С). В экспериментах варьировались плотность тока ионного сопровождения (до 20 мА/см2) и энергия ионов (25-150 эВ), поступающих на поверхность покрытия при постоянной скорости роста 3 мкм/ч. Фазовый состав покрытия анализировался методами рентгеновской дифракции и инфракрасной спектроскопии. Показано, что α-фаза формируется при достижении порогового напряжения смещения 75-100 В и стабильна в ограниченном диапазоне изменения энергии ионов, рост которой приводит к уменьшению размера нанокристаллитов α-фазы и аморфизации покрытия. Особенностью структуры покрытий является преимущественная ориентация (300), наиболее вероятной причиной доминирования которой служит рост α-фазы при выполнении ориентационного соотношения (440)g-Al2O3/(300)a-Al2O3.
Переведенное названиеDEPOSITION OF THE α-AL2O3 COATINGS BY REACTIVEEVAPORATION WITH INTENSIVE ION ASSISTANCE UNDER 500-550 °C
Язык оригиналаРусский
Страницы (с-по)144-150
Число страниц7
ЖурналИзвестия высших учебных заведений. Физика
Том63
Номер выпуска10 (754)
DOI
СостояниеОпубликовано - 2020

ГРНТИ

  • 29.00.00 ФИЗИКА

Уровень публикации

  • Перечень ВАК

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «ФОРМИРОВАНИЕ α-AL<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-ПОКРЫТИЙ РЕАКЦИОННЫМ ИСПАРЕНИЕМ С ИНТЕНСИВНЫМ ИОННЫМ СОПРОВОЖДЕНИЕМ ПРИ 500-550 °С». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать