ФОРМИРОВАНИЕ СУХОГО СЛОЯ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНОЙ КОМПОЗИЦИИ НА ПОВЕРХНОСТИ ДИЭЛЕКТРИКА

Результат исследований: Вклад в журналСтатья

Аннотация

Процессы фотоселективной активации диэлектрических материалов находят широкое применение в технологии производства печатных плат аддитивным методом, исключающим применение фольги-рованных диэлектриков и фоторезисторов. Фотоаддитивная технология изготовления печатных плат - это сложный многостадийный процесс. Исследован процесс формирования фоточувствительного слоя на поверхности диэлектрического материала с использованием композиций на основе ацетата меди и натриевых солей антрахинонсульфокислот. В процессах, протекающих под действием излучения, агрегатное состояние веществ играет очень важную роль. Целью исследований являлось изучение особенностей формирования сухого слоя фотокомпозиции на поверхности диэлектрического материала и выяснение влияния структуры полученного в результате сушки слоя на качество медного покрытия, что является конечным результатом всего процесса фотоактивации. Первичные процессы, протекающие под действием излучения в большинстве твердых веществ, являются весьма специфичными и качественно отличаются от соответствующих процессов в жидкости и газах. Изучаемый процесс фотоактивации диэлектрических материалов является также процессом, протекающим в твердой фазе, закономерности протекания которого будут зависеть от структуры сформированного на поверхности диэлектрика слоя фотокомпозиции. Скорость испарения растворителя зависит от условий проведения сушки. В условиях равновесной сушки скорость испарения растворителя очень мала. Благодаря этому на поверхности образуется хорошо сформированный кристаллический слой. В реальных условиях добиться одновременной кристаллизации всех компонентов довольно сложно. Все равно выделение компонентов будет разделено во времени. Добиться одновременной кристаллизации всех компонентов можно только в условиях неравновесной сушки. Для понимания процесса формирования сухого слоя фотокомпозиции на поверхности диэлектри-ческого материала изучены процессы кристаллизации отдельных компонентов светочувствительного раствора в равновесных условиях. Установлено, что в результате сушки, приближенной к условиям равновесной, отдельных компонентов фотокомпозиции образуются кристаллы различной формы, обусловленные природой каждого компонента. Для получения мелкодисперсных кристаллов нельзя задавать высокие концентрации компонентов при проведении сушки в равновесных условиях. При высокой концентрации компонентов в растворе необходимо проводить сушку в неравновесных условиях с большой скоростью. Этого можно добиться, варьируя температуру и давление несколькими способами: повышение температуры сушки до значений, лежащих ниже температур темновых реакций; понижение давления; повышение температуры сушки с одновременным понижением давления; мгновенное замораживание фотокомпозиции при 77 К с последующей сушкой в вакууме. При введении в фоточувствительную композицию этилового спирта происходит межмолекулярное взаимодействие между молекулами спирта и остальными компонентами, что приводит к гомогенизации сухого слоя фотокомпозиции.
Переведенное названиеThe formation of a dry layer of a photosensitive composition on the surface of the dielectric
Язык оригиналаРусский
Страницы (с-по)67-74
ЖурналБутлеровские сообщения
Том53
Номер выпуска3
СостояниеОпубликовано - 2018

ГРНТИ

  • 31.00.00 ХИМИЯ

Уровень публикации

  • Перечень ВАК

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «ФОРМИРОВАНИЕ СУХОГО СЛОЯ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНОЙ КОМПОЗИЦИИ НА ПОВЕРХНОСТИ ДИЭЛЕКТРИКА». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать