ФОРМИРОВАНИЕ СУХОГО СЛОЯ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНОЙ КОМПОЗИЦИИ НА ПОВЕРХНОСТИ ДИЭЛЕКТРИКА

Результат исследований: Вклад в журналСтатьяНаучно-исследовательскаярецензирование

Аннотация

Процессы фотоселективной активации диэлектрических материалов находят широкое применение в технологии производства печатных плат аддитивным методом, исключающим применение фольги-рованных диэлектриков и фоторезисторов. Фотоаддитивная технология изготовления печатных плат - это сложный многостадийный процесс. Исследован процесс формирования фоточувствительного слоя на поверхности диэлектрического материала с использованием композиций на основе ацетата меди и натриевых солей антрахинонсульфокислот. В процессах, протекающих под действием излучения, агрегатное состояние веществ играет очень важную роль. Целью исследований являлось изучение особенностей формирования сухого слоя фотокомпозиции на поверхности диэлектрического материала и выяснение влияния структуры полученного в результате сушки слоя на качество медного покрытия, что является конечным результатом всего процесса фотоактивации. Первичные процессы, протекающие под действием излучения в большинстве твердых веществ, являются весьма специфичными и качественно отличаются от соответствующих процессов в жидкости и газах. Изучаемый процесс фотоактивации диэлектрических материалов является также процессом, протекающим в твердой фазе, закономерности протекания которого будут зависеть от структуры сформированного на поверхности диэлектрика слоя фотокомпозиции. Скорость испарения растворителя зависит от условий проведения сушки. В условиях равновесной сушки скорость испарения растворителя очень мала. Благодаря этому на поверхности образуется хорошо сформированный кристаллический слой. В реальных условиях добиться одновременной кристаллизации всех компонентов довольно сложно. Все равно выделение компонентов будет разделено во времени. Добиться одновременной кристаллизации всех компонентов можно только в условиях неравновесной сушки. Для понимания процесса формирования сухого слоя фотокомпозиции на поверхности диэлектри-ческого материала изучены процессы кристаллизации отдельных компонентов светочувствительного раствора в равновесных условиях. Установлено, что в результате сушки, приближенной к условиям равновесной, отдельных компонентов фотокомпозиции образуются кристаллы различной формы, обусловленные природой каждого компонента. Для получения мелкодисперсных кристаллов нельзя задавать высокие концентрации компонентов при проведении сушки в равновесных условиях. При высокой концентрации компонентов в растворе необходимо проводить сушку в неравновесных условиях с большой скоростью. Этого можно добиться, варьируя температуру и давление несколькими способами: повышение температуры сушки до значений, лежащих ниже температур темновых реакций; понижение давления; повышение температуры сушки с одновременным понижением давления; мгновенное замораживание фотокомпозиции при 77 К с последующей сушкой в вакууме. При введении в фоточувствительную композицию этилового спирта происходит межмолекулярное взаимодействие между молекулами спирта и остальными компонентами, что приводит к гомогенизации сухого слоя фотокомпозиции.
Переведенное названиеThe formation of a dry layer of a photosensitive composition on the surface of the dielectric
Язык оригиналаРусский
Страницы (с-по)67-74
ЖурналБутлеровские сообщения
Том53
Номер выпуска3
СостояниеОпубликовано - 2018

Отпечаток

drying
nonequilibrium conditions
crystallization
acetates
sodium
evaporation
salts
temperature
printed circuits
circuit boards
radiation
homogenizing
regularity
freezing
crystals
solid phases
alcohols
ethyl alcohol
high speed
activation

ГРНТИ

  • 31.00.00 ХИМИЯ

Уровень публикации

  • Перечень ВАК

Цитировать

@article{d2498f0fcb7c402c8fc622e963e9eabe,
title = "ФОРМИРОВАНИЕ СУХОГО СЛОЯ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНОЙ КОМПОЗИЦИИ НА ПОВЕРХНОСТИ ДИЭЛЕКТРИКА",
abstract = "Процессы фотоселективной активации диэлектрических материалов находят широкое применение в технологии производства печатных плат аддитивным методом, исключающим применение фольги-рованных диэлектриков и фоторезисторов. Фотоаддитивная технология изготовления печатных плат - это сложный многостадийный процесс. Исследован процесс формирования фоточувствительного слоя на поверхности диэлектрического материала с использованием композиций на основе ацетата меди и натриевых солей антрахинонсульфокислот. В процессах, протекающих под действием излучения, агрегатное состояние веществ играет очень важную роль. Целью исследований являлось изучение особенностей формирования сухого слоя фотокомпозиции на поверхности диэлектрического материала и выяснение влияния структуры полученного в результате сушки слоя на качество медного покрытия, что является конечным результатом всего процесса фотоактивации. Первичные процессы, протекающие под действием излучения в большинстве твердых веществ, являются весьма специфичными и качественно отличаются от соответствующих процессов в жидкости и газах. Изучаемый процесс фотоактивации диэлектрических материалов является также процессом, протекающим в твердой фазе, закономерности протекания которого будут зависеть от структуры сформированного на поверхности диэлектрика слоя фотокомпозиции. Скорость испарения растворителя зависит от условий проведения сушки. В условиях равновесной сушки скорость испарения растворителя очень мала. Благодаря этому на поверхности образуется хорошо сформированный кристаллический слой. В реальных условиях добиться одновременной кристаллизации всех компонентов довольно сложно. Все равно выделение компонентов будет разделено во времени. Добиться одновременной кристаллизации всех компонентов можно только в условиях неравновесной сушки. Для понимания процесса формирования сухого слоя фотокомпозиции на поверхности диэлектри-ческого материала изучены процессы кристаллизации отдельных компонентов светочувствительного раствора в равновесных условиях. Установлено, что в результате сушки, приближенной к условиям равновесной, отдельных компонентов фотокомпозиции образуются кристаллы различной формы, обусловленные природой каждого компонента. Для получения мелкодисперсных кристаллов нельзя задавать высокие концентрации компонентов при проведении сушки в равновесных условиях. При высокой концентрации компонентов в растворе необходимо проводить сушку в неравновесных условиях с большой скоростью. Этого можно добиться, варьируя температуру и давление несколькими способами: повышение температуры сушки до значений, лежащих ниже температур темновых реакций; понижение давления; повышение температуры сушки с одновременным понижением давления; мгновенное замораживание фотокомпозиции при 77 К с последующей сушкой в вакууме. При введении в фоточувствительную композицию этилового спирта происходит межмолекулярное взаимодействие между молекулами спирта и остальными компонентами, что приводит к гомогенизации сухого слоя фотокомпозиции.",
author = "Брусницына, {Людмила Александровна} and Алексеева, {Татьяна Анатольевна} and Степановских, {Елена Ивановна}",
year = "2018",
language = "Русский",
volume = "53",
pages = "67--74",
journal = "Бутлеровские сообщения",
issn = "2074-0212",
publisher = "Общество с ограниченной ответственностью {"}Инновационно-издательский дом {"}Бутлеровское наследие{"}",
number = "3",

}

TY - JOUR

T1 - ФОРМИРОВАНИЕ СУХОГО СЛОЯ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНОЙ КОМПОЗИЦИИ НА ПОВЕРХНОСТИ ДИЭЛЕКТРИКА

AU - Брусницына, Людмила Александровна

AU - Алексеева, Татьяна Анатольевна

AU - Степановских, Елена Ивановна

PY - 2018

Y1 - 2018

N2 - Процессы фотоселективной активации диэлектрических материалов находят широкое применение в технологии производства печатных плат аддитивным методом, исключающим применение фольги-рованных диэлектриков и фоторезисторов. Фотоаддитивная технология изготовления печатных плат - это сложный многостадийный процесс. Исследован процесс формирования фоточувствительного слоя на поверхности диэлектрического материала с использованием композиций на основе ацетата меди и натриевых солей антрахинонсульфокислот. В процессах, протекающих под действием излучения, агрегатное состояние веществ играет очень важную роль. Целью исследований являлось изучение особенностей формирования сухого слоя фотокомпозиции на поверхности диэлектрического материала и выяснение влияния структуры полученного в результате сушки слоя на качество медного покрытия, что является конечным результатом всего процесса фотоактивации. Первичные процессы, протекающие под действием излучения в большинстве твердых веществ, являются весьма специфичными и качественно отличаются от соответствующих процессов в жидкости и газах. Изучаемый процесс фотоактивации диэлектрических материалов является также процессом, протекающим в твердой фазе, закономерности протекания которого будут зависеть от структуры сформированного на поверхности диэлектрика слоя фотокомпозиции. Скорость испарения растворителя зависит от условий проведения сушки. В условиях равновесной сушки скорость испарения растворителя очень мала. Благодаря этому на поверхности образуется хорошо сформированный кристаллический слой. В реальных условиях добиться одновременной кристаллизации всех компонентов довольно сложно. Все равно выделение компонентов будет разделено во времени. Добиться одновременной кристаллизации всех компонентов можно только в условиях неравновесной сушки. Для понимания процесса формирования сухого слоя фотокомпозиции на поверхности диэлектри-ческого материала изучены процессы кристаллизации отдельных компонентов светочувствительного раствора в равновесных условиях. Установлено, что в результате сушки, приближенной к условиям равновесной, отдельных компонентов фотокомпозиции образуются кристаллы различной формы, обусловленные природой каждого компонента. Для получения мелкодисперсных кристаллов нельзя задавать высокие концентрации компонентов при проведении сушки в равновесных условиях. При высокой концентрации компонентов в растворе необходимо проводить сушку в неравновесных условиях с большой скоростью. Этого можно добиться, варьируя температуру и давление несколькими способами: повышение температуры сушки до значений, лежащих ниже температур темновых реакций; понижение давления; повышение температуры сушки с одновременным понижением давления; мгновенное замораживание фотокомпозиции при 77 К с последующей сушкой в вакууме. При введении в фоточувствительную композицию этилового спирта происходит межмолекулярное взаимодействие между молекулами спирта и остальными компонентами, что приводит к гомогенизации сухого слоя фотокомпозиции.

AB - Процессы фотоселективной активации диэлектрических материалов находят широкое применение в технологии производства печатных плат аддитивным методом, исключающим применение фольги-рованных диэлектриков и фоторезисторов. Фотоаддитивная технология изготовления печатных плат - это сложный многостадийный процесс. Исследован процесс формирования фоточувствительного слоя на поверхности диэлектрического материала с использованием композиций на основе ацетата меди и натриевых солей антрахинонсульфокислот. В процессах, протекающих под действием излучения, агрегатное состояние веществ играет очень важную роль. Целью исследований являлось изучение особенностей формирования сухого слоя фотокомпозиции на поверхности диэлектрического материала и выяснение влияния структуры полученного в результате сушки слоя на качество медного покрытия, что является конечным результатом всего процесса фотоактивации. Первичные процессы, протекающие под действием излучения в большинстве твердых веществ, являются весьма специфичными и качественно отличаются от соответствующих процессов в жидкости и газах. Изучаемый процесс фотоактивации диэлектрических материалов является также процессом, протекающим в твердой фазе, закономерности протекания которого будут зависеть от структуры сформированного на поверхности диэлектрика слоя фотокомпозиции. Скорость испарения растворителя зависит от условий проведения сушки. В условиях равновесной сушки скорость испарения растворителя очень мала. Благодаря этому на поверхности образуется хорошо сформированный кристаллический слой. В реальных условиях добиться одновременной кристаллизации всех компонентов довольно сложно. Все равно выделение компонентов будет разделено во времени. Добиться одновременной кристаллизации всех компонентов можно только в условиях неравновесной сушки. Для понимания процесса формирования сухого слоя фотокомпозиции на поверхности диэлектри-ческого материала изучены процессы кристаллизации отдельных компонентов светочувствительного раствора в равновесных условиях. Установлено, что в результате сушки, приближенной к условиям равновесной, отдельных компонентов фотокомпозиции образуются кристаллы различной формы, обусловленные природой каждого компонента. Для получения мелкодисперсных кристаллов нельзя задавать высокие концентрации компонентов при проведении сушки в равновесных условиях. При высокой концентрации компонентов в растворе необходимо проводить сушку в неравновесных условиях с большой скоростью. Этого можно добиться, варьируя температуру и давление несколькими способами: повышение температуры сушки до значений, лежащих ниже температур темновых реакций; понижение давления; повышение температуры сушки с одновременным понижением давления; мгновенное замораживание фотокомпозиции при 77 К с последующей сушкой в вакууме. При введении в фоточувствительную композицию этилового спирта происходит межмолекулярное взаимодействие между молекулами спирта и остальными компонентами, что приводит к гомогенизации сухого слоя фотокомпозиции.

UR - https://elibrary.ru/item.asp?id=32669937

M3 - Статья

VL - 53

SP - 67

EP - 74

JO - Бутлеровские сообщения

JF - Бутлеровские сообщения

SN - 2074-0212

IS - 3

ER -