Al2O3 thin films deposition by reactive evaporation of Al in anodic arc with high levels of metal ionization

N. V. Gavrilov, A. S. Kamenetskikh, P. V. Trernikov, D. R. Emlin, A. V. Chukin, Yu S. Surkov

Результат исследований: Вклад в журналСтатьярецензирование

7 Цитирования (Scopus)

Fingerprint

Подробные сведения о темах исследования «Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> thin films deposition by reactive evaporation of Al in anodic arc with high levels of metal ionization». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Технические дисциплины и материаловедение

Физика и астрономия

Химические соединения