Deposition of Al2O3 coatings in Ar-O2 low-pressure discharge plasma under a high dissociation degree of O2

P. V. Tretnikov, N. V. Gavrilov, A. S. Kamenetskikh, S. V. Krivoshapko, A. V. Chukin

Результат исследований: Вклад в журналМатериалы конференциирецензирование

Fingerprint

Подробные сведения о темах исследования «Deposition of Al2O3 coatings in Ar-O2 low-pressure discharge plasma under a high dissociation degree of O2». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Физика и астрономия