Electrodeposition of Thin Silicon Films from the KF-KCl-KI-K2SiF6 Melt

M. V. Laptev, A. V. Isakov, O. V. Grishenkova, A. S. Vorob'Ev, A. O. Khudorozhkova, L. A. Akashev, Yu P. Zaikov

Результат исследований: Вклад в журналСтатья

1 Цитирования (Scopus)
Язык оригиналаАнглийский
Номер статьи042506
Число страниц6
ЖурналJournal of the Electrochemical Society
Том167
Номер выпуска4
DOI
СостояниеОпубликовано - мар 2020

Предметные области ASJC Scopus

  • Electronic, Optical and Magnetic Materials
  • Materials Chemistry
  • Surfaces, Coatings and Films
  • Electrochemistry
  • Renewable Energy, Sustainability and the Environment

Предметные области WoS

  • Материаловедение, Покрытия и пленки
  • Электрохимия

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Electrodeposition of Thin Silicon Films from the KF-KCl-KI-K2SiF6 Melt». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать