Interfacial reactions in Al2O3/Cr2O3 layers: Electronic structure calculations and X-ray photoelectron spectra

Результат исследований: Вклад в журналСтатьяНаучно-исследовательскаярецензирование

Язык оригиналаАнглийский
Страницы (с-по)6-8
Число страниц3
ЖурналThin Solid Films
Том665
DOI
СостояниеОпубликовано - 1 ноя 2018

Отпечаток

Photoelectrons
Valence bands
Surface chemistry
Electronic structure
photoelectrons
Ions
electronic structure
X rays
Core levels
Stainless Steel
Substrates
Fermi level
Density functional theory
valence
Evaporation
Energy gap
x rays
Substitution reactions
Stainless steel
arc discharges

Ключевые слова

    Предметные области ASJC Scopus

    • Electronic, Optical and Magnetic Materials
    • Surfaces and Interfaces
    • Surfaces, Coatings and Films
    • Metals and Alloys
    • Materials Chemistry

    Предметные области WoS

    • Материаловедение, Междисциплинарные труды
    • Материаловедение, Покрытия и пленки
    • Физика, Прикладная
    • Физика, Конденсированных сред

    Цитировать

    @article{6202ea0b7e1f4b89b0581576d0def495,
    title = "Interfacial reactions in Al2O3/Cr2O3 layers: Electronic structure calculations and X-ray photoelectron spectra",
    keywords = "Alumina, Chromium oxide, Coherent potential approximation, Density functional theory calculations, Interfacial reactions, X-ray photoelectron spectroscopy",
    author = "Korotin, {M. A.} and Zhidkov, {I. S.} and Kukharenko, {A. I.} and Cholakh, {S. O.} and Kamenetskikh, {A. S.} and Gavrilov, {N. V.} and Kurmaev, {E. Z.}",
    year = "2018",
    month = "11",
    day = "1",
    doi = "10.1016/j.tsf.2018.08.037",
    language = "English",
    volume = "665",
    pages = "6--8",
    journal = "Thin Solid Films",
    issn = "0040-6090",
    publisher = "Elsevier BV",

    }

    Interfacial reactions in Al2O3/Cr2O3 layers: Electronic structure calculations and X-ray photoelectron spectra. / Korotin, M. A.; Zhidkov, I. S.; Kukharenko, A. I.; Cholakh, S. O.; Kamenetskikh, A. S.; Gavrilov, N. V.; Kurmaev, E. Z.

    В: Thin Solid Films, Том 665, 01.11.2018, стр. 6-8.

    Результат исследований: Вклад в журналСтатьяНаучно-исследовательскаярецензирование

    TY - JOUR

    T1 - Interfacial reactions in Al2O3/Cr2O3 layers: Electronic structure calculations and X-ray photoelectron spectra

    AU - Korotin, M. A.

    AU - Zhidkov, I. S.

    AU - Kukharenko, A. I.

    AU - Cholakh, S. O.

    AU - Kamenetskikh, A. S.

    AU - Gavrilov, N. V.

    AU - Kurmaev, E. Z.

    PY - 2018/11/1

    Y1 - 2018/11/1

    KW - Alumina

    KW - Chromium oxide

    KW - Coherent potential approximation

    KW - Density functional theory calculations

    KW - Interfacial reactions

    KW - X-ray photoelectron spectroscopy

    UR - http://www.scopus.com/inward/record.url?scp=85053064929&partnerID=8YFLogxK

    UR - https://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=tsmetrics&SrcApp=tsm_test&DestApp=WOS_CPL&DestLinkType=FullRecord&KeyUT=000447427400002

    UR - https://elibrary.ru/item.asp?id=35720730

    U2 - 10.1016/j.tsf.2018.08.037

    DO - 10.1016/j.tsf.2018.08.037

    M3 - Article

    VL - 665

    SP - 6

    EP - 8

    JO - Thin Solid Films

    JF - Thin Solid Films

    SN - 0040-6090

    ER -