Interfacial reactions in Al2O3/Cr2O3 layers: Electronic structure calculations and X-ray photoelectron spectra

M. A. Korotin; I. S. Zhidkov; A. I. Kukharenko; S. O. Cholakh; A. S. Kamenetskikh; N. V. Gavrilov; E. Z. Kurmaev

doi:10.1016/j.tsf.2018.08.037

Interfacial reactions in Al₂O₃/Cr₂O₃ layers: Electronic structure calculations and X-ray photoelectron spectra

M. A. Korotin, I. S. Zhidkov, A. I. Kukharenko, S. O. Cholakh, A. S. Kamenetskikh, N. V. Gavrilov, E. Z. Kurmaev

Результат исследований: Вклад в журнал › Статья

Язык оригинала	Английский
Страницы (с-по)	6-8
Число страниц	3
Журнал	Thin Solid Films
Том	665
DOI	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2018.08.037
Состояние	Опубликовано - 1 ноя 2018

Предметные области ASJC Scopus

Electronic, Optical and Magnetic Materials
Metals and Alloys
Materials Chemistry
Surfaces, Coatings and Films
Surfaces and Interfaces

Предметные области WoS

Материаловедение, Покрытия и пленки
Материаловедение, Междисциплинарные труды
Физика, Конденсированных сред
Физика, Прикладная

Ссылки

10.1016/j.tsf.2018.08.037

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Interfacial reactions in Al2O3/Cr2O3 layers: Electronic structure calculations and X-ray photoelectron spectra». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

1 Завершено
1 Активно

Научная лаборатория «Ионно-пучковых и плазменных технологий для создания новых функциональных материалов и покрытий»
Чолах, С. О., Жидков, И. С., Кухаренко, А. И., Судовых, Н. И., Курмаев, Э. З., Коротин, Д. М., Скориков, Н. А., Комарский, А. А., Малкин, А. И., Жидкова, Н. Г., Черепанов, А. Н., Павличенко, Н. Ю., Овчинников, В. В., Медведев, А. И., Гусев, А. И., Шмелев, Д. Л., Никулин, С. П. & Соломонов, В. И.
04/01/2014 → …
Проект: Исследование › Научная лаборатория
Воздействие мощных потоков электромагнитного изучения, потоков плазмы, пучков нейтральных и заряженных частиц на материалы
Чолах, С. О.
01/01/2017 → 31/12/2019
Проект: Проект-Грант

Цитировать

@article{6202ea0b7e1f4b89b0581576d0def495,

title = "Interfacial reactions in Al2O3/Cr2O3 layers: Electronic structure calculations and X-ray photoelectron spectra",

keywords = "Alumina, Chromium oxide, Coherent potential approximation, Density functional theory calculations, Interfacial reactions, X-ray photoelectron spectroscopy, ELEMENTS, CERAMICS",

author = "Korotin, {M. A.} and Zhidkov, {I. S.} and Kukharenko, {A. I.} and Cholakh, {S. O.} and Kamenetskikh, {A. S.} and Gavrilov, {N. V.} and Kurmaev, {E. Z.}",

year = "2018",

month = nov,

day = "1",

doi = "10.1016/j.tsf.2018.08.037",

language = "English",

volume = "665",

pages = "6--8",

journal = "Thin Solid Films",

issn = "0040-6090",

publisher = "Elsevier BV",

}

Interfacial reactions in Al₂O₃/Cr₂O₃ layers: Electronic structure calculations and X-ray photoelectron spectra. / Korotin, M. A.; Zhidkov, I. S.; Kukharenko, A. I.; Cholakh, S. O.; Kamenetskikh, A. S.; Gavrilov, N. V.; Kurmaev, E. Z.

В: Thin Solid Films, Том 665, 01.11.2018, стр. 6-8.

Результат исследований: Вклад в журнал › Статья

TY - JOUR

T1 - Interfacial reactions in Al2O3/Cr2O3 layers: Electronic structure calculations and X-ray photoelectron spectra

AU - Korotin, M. A.

AU - Zhidkov, I. S.

AU - Kukharenko, A. I.

AU - Cholakh, S. O.

AU - Kamenetskikh, A. S.

AU - Gavrilov, N. V.

AU - Kurmaev, E. Z.

PY - 2018/11/1

Y1 - 2018/11/1

KW - Alumina

KW - Chromium oxide

KW - Coherent potential approximation

KW - Density functional theory calculations

KW - Interfacial reactions

KW - X-ray photoelectron spectroscopy

KW - ELEMENTS

KW - CERAMICS

UR - http://www.scopus.com/inward/record.url?scp=85053064929&partnerID=8YFLogxK

UR - https://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=tsmetrics&SrcApp=tsm_test&DestApp=WOS_CPL&DestLinkType=FullRecord&KeyUT=000447427400002

UR - https://elibrary.ru/item.asp?id=35720730

U2 - 10.1016/j.tsf.2018.08.037

DO - 10.1016/j.tsf.2018.08.037

M3 - Article

AN - SCOPUS:85053064929

VL - 665

SP - 6

EP - 8

JO - Thin Solid Films

JF - Thin Solid Films

SN - 0040-6090

ER -

Interfacial reactions in Al2O3/Cr2O3 layers: Electronic structure calculations and X-ray photoelectron spectra

Предметные области ASJC Scopus

Предметные области WoS

Ссылки

Научная лаборатория «Ионно-пучковых и плазменных технологий для создания новых функциональных материалов и покрытий»

Воздействие мощных потоков электромагнитного изучения, потоков плазмы, пучков нейтральных и заряженных частиц на материалы

Цитировать

Interfacial reactions in Al₂O₃/Cr₂O₃ layers: Electronic structure calculations and X-ray photoelectron spectra