Neutron Transmutation Doping of Thin Silicon Films Electrodeposited from the KF-KCl-KI-K2SiF6 Melt

Andrey Isakov, Sergey Khvostov, Evgeny Kinev, Michael Laptev, Anastasia Khudorozhkova, Olga Grishenkova, Vladimir Rychkov, Yurii Zaikov

Результат исследований: Вклад в журналСтатья

2 Цитирования (Scopus)
Язык оригиналаАнглийский
Номер статьи082515
Число страниц9
ЖурналJournal of the Electrochemical Society
Том167
Номер выпуска8
DOI
СостояниеОпубликовано - 25 мая 2020

Предметные области ASJC Scopus

  • Electronic, Optical and Magnetic Materials
  • Renewable Energy, Sustainability and the Environment
  • Surfaces, Coatings and Films
  • Electrochemistry
  • Materials Chemistry

Предметные области WoS

  • Электрохимия
  • Материаловедение, Покрытия и пленки

Fingerprint Подробные сведения о темах исследования «Neutron Transmutation Doping of Thin Silicon Films Electrodeposited from the KF-KCl-KI-K<sub>2</sub>SiF<sub>6</sub> Melt». Вместе они формируют уникальный семантический отпечаток (fingerprint).

Цитировать